工业设计 光刻机,光刻机设计师

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于工业设计 光刻机的问题，于是小编就整理了3个相关介绍工业设计 光刻机的解答，让我们一起看看吧。

1. 造出最顶级CPU与最顶级光刻机，以中国目前的水平，哪一个更难？
2. 哈工大光刻机是100%国产吗？
3. 光刻机能刻出超过自己纳米级别的芯片吗？数亿美元，用一年就扔？

造出最顶级CPU与最顶级光刻机，以中国目前的水平，哪一个更难？

那肯定是CPU。因为这玩意是否顶级不仅靠技术，而且靠运气。

光刻机是干什么的？就是用来生产芯片的，CPU也是一种芯片。

所谓光刻，就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。在制造芯片时，会先在晶圆的表面覆盖上一层光刻胶，再用光线透过掩模板照射硅片的表面。此时光感胶受到光线的***会发生溶解，进而自行形成电路。

它的难点在于，一要顶级的光源来刻，这就需要背后有复杂且强大的光学系统设备进行支持；二是机械精度，维持足够的精度，就需要配合无数的传感器进行调整。

所以，关键点就是两方面：光学系统设备，传感器。

CPU这东西解释起来就容易了。

比如说我们用的电脑，CPU有I7的，I5的，其实，这两款CPU总的来说是一样的。

那为什么会有I7、I5之分呢？

原因也很简单。同一批CPU，质量更好的就是I7，质量差点的就是I5。“量产”造就了这种差异。

或者用打靶来比喻。你校一百飞，不可能全部打中红心吧？那么，10环的就是I7，8环的就是I5。但是，10环也不是满环，你还能打出10.9环来呢。

10.9环靠什么？那就不仅靠技术了，也要靠运气。

都不难，因为中国技术人才储备已雄厚，但要组织好发挥好他们的能动性，并且一步一个脚印向前发展创新，首先是仿制（即山寨），熟练了就制造，精通了就创造。这是一个系统工程，不可能一步登天，持之以恒，中国在这些领域将能登天的高度。

哈工大光刻机是100%国产吗？

哈尔滨工业大学光刻机是100%国产。

中国光刻机技术取得突破性进展，哈工大成功破解了EUV光刻机的生产结构，解决了光刻机重点的"卡脖子"难题，即物理光源问题，可以说中国光刻机技术已经飞跃。

中南大学相关研究领域也成功破解了EUV光刻机的生产结构。

光刻机能刻出超过自己纳米级别的芯片吗？数亿美元，用一年就扔？

你以为只有手机电脑用芯片啊？电梯就没有了？指纹锁给你用5纳米的芯片有意义吗？似乎现在还有微米级的芯片生产呢！手机主芯片升级，设备就转去次级芯片，再转更低级的芯片生产！所有行业都是这样升级换代的！

光刻机的光学曝光系统是不允许设备超过自己纳米级别的芯片的。

元器件种类很多，并不是所有的器件都需要最高精度的光刻机生产线的。一般一个大的代工厂，会布局好几代制程工艺生产线。

按照对光刻机制程工艺的要求可以分为：

最高制程工艺：消费级的主芯片，存储器

中等高级制程工艺：工业类的主芯片，高精度的ADC 运放等

低等制程工艺：模拟器件

最差等制程工艺：被动器件

所以代工厂会根据用户要代工的产品情况，来选择用哪种产线更合适。最新的制程工艺上线以后，原来的就用于其他元器件的生产，一般不会浪费的，对于最末端的产线，要么卖给低端代工厂或者拆掉，但是那时都是已经早就收回成本了。

先需要澄清一个问题，

那就是光刻机不是以28nm，14nm，7nm这些工艺节点来命名的;而是以波长来命名的，

例如常说的28nm，14nm工艺的光刻机一般叫193nm浸入式光刻机，而目前最先进的7nm，5nm工艺的光刻机（只有部分工艺）就是大名鼎鼎的EUV光刻机，这里EUV的英文意思是极紫外光，波长为13.5nm

接下来再回答你的问题，答案是光刻机可以刻出超过自己纳米的精度（***定你说的光刻机自己的精度是指它的波长）。

对于一台193nm波长的浸入式光刻机而言，其目前的极限精度是36nm，当然这还要和一系列其他技术相配合;

而对于13.5nm波长的EUV光刻机而言，2nm对它来说没什么问题

所以光刻机可以很容易实现比自己波长还小5倍的精度

到此，以上就是小编对于工业设计 光刻机的问题就介绍到这了，希望介绍关于工业设计 光刻机的3点解答对大家有用。